2026산업통상부
수직적층공정 수율 증가를 위한 고속 웨이퍼 후면 결함 인라인 검사장비 개발
Development of High-Speed In-line Wafer Backside Inspection Equipment for Improving Vertical Stacking Process Yield
- wafer backside에서 공정의 수율에 영향을 끼치는 1um급의 결함을 검사하고자 2D 고속 Scan과와 3D 정밀 하이브리드 광학계와 AI를 활용한 검사 장비를 개발 - DUV 광산란 기반 sub-μm 후면결함 2D/3D 및 워피지 동시 계측 검사장비 개발 및 상용화 - 기계학습운영(MLOps) 프로그램 개발을 통해 AI 배포 및 - 검사 결과 분석...
- 총 연구비
- 16.9억원 과제 1건 (수행기관 1곳)
- 연구 기간
- 2년 9개월수행 중 (D-787)2026-04-01 – 2028-12-31
- 적용분야
- 주관기관
01
연구 내용
02
기대 효과
03
과제 분석
연도별 과제금액 · 건수
인력 비율
04

