0.7nm 로직 소자향 300mm급 N형 이차원 반도체 직성장 장비 개발 및 실증

Development and Demonstration of 300 mm Wafer Scale Direct Deposition Equipment for N-Type Two-Dimensional Semiconductors Targeting 0.7 nm Logic Devices

본 과제는 기존 200 mm급 데모 장비를 기반으로 300 mm급 양산형 이차원 반도체 성장 장비를 개발하고 실증하는 것을 최종 목표로 하며, 이를 위해 공정·장비·소자 측면의 통합적 기술 개발을 수행하여 실증 기반 파운드리사의 협력 추진을 통한 사업화를 목표로 함. - 공정 측면에서는 CLD 기반 성장에서 알칼리 핵 생성 제어를 고도화하기 위해 pre-re...