2026과학기술정보통신부
이차원 반도체의 삼차원 집적을 위한 에피 웨이퍼 제조 및 전사 기술 개발
Development of Epi Wafer Manufacturing and Transfer Technology for 3D Integration of 2D Semiconductors
최종 목표: 차세대 반도체 핵심 소재인 단결정 2차원 반도체 물질의 8인치급 대면적 합성 기술·장비와 4인치급 고신뢰성 무손상 롤 기반 전사 기술·장비를 확보하고, 이를 이용한 Si 웨이퍼 위 고성능 2D 반도체 채널 BEOL 트랜지스터를 실증하고자 함. 해당 기술 기반으로 소재(2D 에피 웨이퍼, 스탬프), 장비(2D 에피 증착 장비, 롤 전사 장비), 파운드리 (2D 반도체 MPW)를 통…
- 총 연구비
- 9.3억원 과제 1건 (수행기관 1곳)
- 연구 기간
- 1년 9개월수행 중 (D-507)2026-04-01 – 2027-12-31
- 적용분야
- 주관기관
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연구 내용
02
기대 효과
03
과제 분석
연도별 과제금액 · 건수
인력 비율
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