2026중소벤처기업부
300mm 반도체 웨이퍼 배면 비파괴 주사전자현미경 개발
Development of Non-destructive Scanning Electron Microscopy for 300mm Semiconductor Wafer Backside Inspection
1. 본 연구개발의 최종목표는 세계 유일의 웨이퍼 배면 비파괴 검사 기능을 갖추고, 대한민국 최초로 반도체 인라인(In-Line) 환경에 적용 가능한 300mm 웨이퍼용 주사전자현미경(SEM) 장비 BSR-2000을 한국 기술 중심(국산화율 80% 이상)으로 개발·제조하는 것이다.현재 삼성전자를 비롯한 국내 반도체 제조사는 웨이퍼 배면 결함 분석을 위해 웨...
- 총 연구비
- 2.9억원 과제 1건 (수행기관 1곳)
- 연구 기간
- 2년수행 중 (D-603)2026-07-01 – 2028-06-30
- 적용분야
- 주관기관
01
연구 내용
02
기대 효과
03
과제 분석
연도별 과제금액 · 건수
인력 비율
04

