2012중소벤처기업부
LED 투명전극 형성용 Damage-free 고밀도 대면적 플라즈마 소스 및 대량생산용 스퍼터 장비 개발
(1) 독자기술 적용을 통한 대면적 플라즈마 발생장치 개발 - In-Line 스퍼터링을 위한 직사각형 구조 gun 개발 (410×100×10mm3) - Pulsed DC 및 RF power 인가 모듈 개발 - 전체 스퍼터 시스템 제작 및 Demo 평가 완료 (2) 대용량 웨이퍼 처리를 위한 웨이퍼 트레이 개발 - single sputter gun 및 단면 로딩 트레이 개발 - 2인…
- 총 연구비
- 5.6억원 과제 2건 (수행기관 2곳)
- 연구 기간
- 2년수행완료2012-06-01 – 2014-05-31
- 적용분야
- 주관기관
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연구 내용
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기대 효과
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과제 분석
연도별 과제금액 · 건수
인력 비율
연도별 과제 금액과 건수를 확인해 보세요
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