2022중소벤처기업부
MOS 형 반도체의 wet cleaning 공정 후 wafer-설비간 접촉에서의 정전기방지용 코팅기술 개발
Development of coating technology to prevent electrostatic discharge in wafer-equipment contact after wet cleaning process of MOS type semiconduct
○ 1차년도에는 리버스엔지니어링을 통해 검토된 기존제품의 데이터 수집, 활용방안을 토대로 코팅 장비 set-up과 기초성능 최적화를 통해 정전기 방지용 DLC 코팅 기초 공정기술을 개발함 - 참여기관은, Wafer Chuck 모듈 초정밀 가공 및 패터닝 공정을 통해 수요업체 납품을 위한 모재 생산기술에 대해 검토 및 완료함 - 주관기관 및 참여기관은, 정전기 인가형 실시간 내마모 시험방법…
- 총 연구비
- 2.7억원 과제 4건 (수행기관 2곳)
- 연구 기간
- 2년수행완료2022-07-01 – 2024-06-30
- 적용분야
- 주관기관
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연구 내용
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기대 효과
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과제 분석
연도별 과제금액 · 건수
인력 비율
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