515×515 mm² 패널 대응 L/S(Line & Space) 1/1 ㎛급 마스크리스 노광 장비 개발 및 인터포저 재배선 공정 기술 개발

Development of maskless exposure equipment for 515x515mm panels with a 1/1 L/S (Line & Space) rating and interposer redistribution process technology

[최종목표] ㅇ 노광해상도 L/S 1/1 ㎛, 515×515 mm² 대면적 패널 스캔에 대응 가능한 양산형 마스크리스 노광 장비를 개발하고,이를 기반으로 다층 패널레벨 인터포저 RDL 재배선 공정기술을 확보하는 것을 최종 목표[1차년도 목표]ㅇ대면적 패널(515×515 mm²) 대응 장비 아키텍처 및 핵심 요소기술(초정밀 이송, 환경 제어, 광원/광학계, A...