2023중소벤처기업부
차세대 고전력반도체용 4인치급 고품위 알파-산화갈륨 에피증착을 위한 ALD-MOCVD 하이브리드 증착 시스템 개발
Development of ALD-MOCVD Hybrid Depostion System of 4inch high quality alpha-gallium oxide epitaxy for next generation power devices
4인치급 고품위 알파-산화갈륨 에피증착을 위한 ALD-MOCVD 하이브리드 증착 시스템 장비/공정/분석 기술 개발
- 총 연구비
- 13.8억원 과제 3건 (수행기관 3곳)
- 연구 기간
- 3년수행 중 (D-2)2023-07-01 – 2026-06-30
- 적용분야
- 주관기관
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연구 내용
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기대 효과
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과제 분석
연도별 과제금액 · 건수
인력 비율
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