오스
반도체 ALE 장비
반도체 8대 공정 중 식각 공정에 사용할 수 있는 차세대 ALE(Atomic Layer Etching) 장비
제조
기술반도체/디스플레이 반도체
분야오프라인
O2O제조/공급
사업 형태
공정/설비
개발중유사 제품/서비스
- 72%칠러차고엔지니어링
반도체 공정에서 온도를 안정적으로 제어하는 온도 조절 장치
- 71%AI 반도체구)리벨리온
인공지능 모델 학습과 모델을 통한 추론에 최적화된 시스템 반도체 (리벨)
- 69%반도체 열처리 장비알엔알랩
차세대 반도체 열처리 공정 기술 기반 반도체 열처리 장비
- 69%박막 증착 서비스세미콘웍스
CVD 공정으로 금속, 산화물 등 다양한 재료를 Si 웨이퍼, 글라스, 메탈, 플라스틱 기판에 나노 두께로 정밀 코팅하는 서비스
- 68%광자 집적 회로용 집적 광 분리기포토니솔
실리콘 포토닉 집적 장치 및 기능성 포토닉 장치
- 68%크라이오 펌프 시스템크라이오에이치앤아이
극저온 진공펌프 시스템
- 68%GaN Epi-Wafer엘앤디전자
전력반도체용 AIN 기반 화합물 반도체 에피웨이퍼
- 67%반도체 유리기판앱솔릭스
TGV, 메탈라이징 공정이 적용된 고성능 반도체 유리기판